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1700℃液相外延法晶體生長(zhǎng)爐
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1700℃混合式晶體生長(zhǎng)爐(PVT&布里奇曼)
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1650℃小型布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐(Φ60mm剛玉管,不銹鋼法蘭密封)
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1200℃小型布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐(雙溫區(qū),Φ80mm石英管,不銹鋼法蘭密封)
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1000℃小型定向凝固區(qū)熔爐
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全自動(dòng)化多功能涂布系統(tǒng):刮刀&擠壓涂布&絲網(wǎng)印刷,寬度300mm
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8工位自動(dòng)電弧熔煉系統(tǒng)(含真空吸鑄)
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氧化鋯坩堝(外徑34mm,高度38mm,壁厚2.5mm,(15ml),熔點(diǎn)2100℃)
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2100℃上稱重CZ晶體生長(zhǎng)爐
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1200℃雙溫區(qū)滑軌爐(φ150mm石英管,快速升溫/降溫)
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1500℃氫氣熱重分析爐(φ60mm爐管,配備可燃尾氣處理裝置)
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1200℃五溫區(qū)液相外延法晶體生長(zhǎng)爐(針對(duì)YIG薄膜,LPE法)
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經(jīng)濟(jì)型小型干燥室(6平米,最高露點(diǎn)-40℃)
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開(kāi)瓣圓形干壓模具(內(nèi)徑2-40mm可定制)
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卷對(duì)卷熱軋機(jī)(異步調(diào)速,用于干法電極揉搓軋制,200mmW,8T,200℃)
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真空泵前級(jí)顆粒過(guò)濾器(5微米級(jí)濾芯)
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1200℃多功能實(shí)驗(yàn)爐(可快速加熱/冷卻)
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1.5L防腐高壓水熱反應(yīng)釜(鈦合金罐體,300℃&3Mpa,帶進(jìn)液裝置)
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250ml氮化硅球磨罐(重量1.3kg)
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300*300高精度平板熱壓機(jī) ( 加熱板平面度公差≤0.04mm,加熱板平行度公差≤0.02mm)
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1200℃多功能三溫區(qū)滑軌/電動(dòng)區(qū)熔爐
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小型可移動(dòng)式氣體凈化器
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550℃熱壓機(jī)(Si3N4模具,數(shù)字壓力&溫度控制)
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小型手動(dòng)熱壓機(jī)(12mmSi3N4模具,550℃,溫度控制,油壓機(jī))